1、在膜系中，光学厚度为四分之一长中心波长的膜层，对中心波长处的反射率没有影响。这个膜层称为虚设层。
2、测量薄膜器件的反射率、透过率等光谱特性曲线的常用仪器为分光光度计。
3、任何一个复杂的薄膜系统，其反射率的计算问题都可以通过其等效界面对应的等效光学导纳进行计算。
4、偏振中性分束棱镜的设计原理，利用的是光束倾斜入射时的偏振效应。
5、在截止滤光片中，通常把抑制短波区，透射长波区的滤光片称为长波通滤光片。
6、在截止滤光片中，通常把抑制长波区，透射短波区的滤光片称为短波通滤光片。、
7、光学真空镀膜机大多数是热蒸发真空镀膜设备，主要由三大部分组成：真空系统、热蒸发系统、膜厚控制系统。
8、光学真空镀膜机的膜厚控制系统通常包括光学膜厚控制仪、石英晶体振荡膜厚控制仪。
9、光学膜厚控制系统对膜厚的监控是根据光学信号的极值点来判断膜层厚度。
10、石英晶体振荡膜厚控制系统监控膜厚主要是利用了石英晶体的压电效应和质量负荷效应。
11、光学薄膜制备过程中常用的热蒸发方式为电阻蒸发、电子枪蒸发。
12、光学真空镀膜机中用于测量真空度的仪器是真空计，包括电偶真空计和电离真空计两种。
13、影响薄膜器件光学性能的膜层光学参数是膜层的折射率和厚度，通称为光学常数。
14、提高薄膜沉积速率的方法主要有两种：①提高蒸发源的温度；②增大蒸发源的面积。
15、修正挡板是为了保证不同位置膜层厚度的均匀性。
16、薄膜的应力包括压应力和张应力。
17、在 25℃条件下，平均自由程 l 与压强 P 之间的关系为：Pl=0.667（cm·Pa） 18、在热蒸发制备光学薄膜的过程中，薄膜的附着力、致密度往往比较差，为了改善薄膜的品质，常采用的方式是离子辅助沉积。
18、Y=H/E，介质中沿 K0 方向传播的电磁波的磁场强度与电厂强度之比等于所在介质的光学导纳。
19、对于无吸收膜系有 T+R=1，对于有吸收膜系 A+R+T=1. 23、光学零件的表面反射会在光学系统中导致两个严重的后果：①光能量的损失。使像的亮度降低。②杂散光的干扰会导致分辨率的降低。
20、光电极值法主要用于控制规整膜系，石英晶体振荡法主要用于控制非规整膜系。
21、薄膜应力分为压应力和张应力
22、光学真空镀膜机中获得高真空，一般要用到的泵有油扩散泵和机械泵。
23、可以有效防止膜料发生热分解的热蒸发方式为电子束蒸发。
24、光学薄膜器件的机械性能主要包括膜层的硬度和牢固度。
25、机械泵是唯一可以实现对大气压强的氛围下直接开始抽气真空。而油扩散泵、以及罗茨泵均不可以。
26、金膜、银膜、铝膜的反射带宽在紫外、可见、红外波段范围中，覆盖的波段从多到少的顺序为铝、银、金。
27、膜系的透过率与光的传播方向无关。
28、任意一个多层膜系都可以等效为一个单层膜。
29、只有对称结构的多层介质膜系才可以等效成一个单层膜。
30、相比于 Al 膜，Au 膜与镜片表面的附着力小于 Al 膜。
31、所谓的 IR-CUT，即红外截止滤光片，在截止滤光片中属于短波通滤光片。
32、石英晶振片的特性与石英晶体的切割方式有关。
33、高压强对应低真空度
34、电离真空计主要用于测量高真空。
35、电偶真空计主要用于测量低真空。
36、石英晶体膜厚控制仪测量的是薄膜的几何厚度。
37、光学膜厚控制仪测量的是薄膜的光学厚度。
38、高反射膜系中常采用高、低折射率组合的方式进行膜系设计，为了提高反射带的反射率可以增加两种材料折射率的差值。
39、膜料的折射率与真空度、沉积速率、烘烤温度、蒸发角度都有关系。
40、采用介质膜堆制造中性分束镜的特点是：分光效率高，无吸收，偏振效应明显，分光特性色散明显。
41、提高薄膜沉积速率的方法主要有两种：①提高蒸发源的温度；②增大蒸发源的面积。
42、薄膜的环境试验包括：恒温恒湿试验、液体侵蚀、温度试验、耐冷及耐辐射等特殊的环境试验。
43、影响薄膜膜层均匀性的主要三大因素：①蒸发源的发射特性②蒸发源与被镀件的相对位置③被镀件的面形
44、光学薄膜的膜系设计过程中，反射带的带宽要求比较大时，可以不同中心波长反射膜的连接，来拓宽反射带。
45、截止滤光片的设计过程中，利用光学薄膜设计软件，层数越多越容易优化。
46、薄膜膜系的设计过程中，某一层薄膜的厚度不宜过厚也不宜过薄。
47、利用光学薄膜设计软件对规整膜系进行优化时，规整膜系一般会变成不规整膜系。
48、利用光学薄膜设计软件设计的膜系，在镀制过程中通过控制工艺参数会使实际镀制的膜系光谱曲线与设计的有所不同。
49、超声波清洗过程中，根据清洗流程，镜片入槽的顺序为洗涤剂溶液槽、市水槽、纯水槽。
50、超声波清洗过程中，为了增强清洗效果，水槽里的溶液一般需要加温。
51、一般情况下，在光学镜片镀膜结束后，玻璃镜片在拿出来的时候温度还是比较高的，操作人员要小心烫伤。
52、光学镜片在清洗结束后，放入镀膜机真空室进行镀制时，操作人员要带着口罩，是为了防止说话、打喷嚏的时候污染镜片。
53、光学镜片放入镀膜机真空室开始准备镀膜后，工件架的转动就要开启，是为了保证不同位置的镜片在加热过程中，受热均匀。
54、光学真空镀膜机在抽低真空的时候，从真空室开始，气体的走向顺序为真空室、低阀、机械泵、大气。
55、光学真空镀膜机在抽高真空的时候，从真空室开始，气体的走向顺序为真空室、高阀、扩散泵、预阀、机械泵、大气。
56、光学真空镀膜机在由低真空向抽高真空切换的时候，操作是关低阀、开预阀、开高阀。
57、光学真空镀膜机在关上真空室门后，开始抽低真空的操作顺序为：关预阀、开防湍阀、开低阀。
58、镀膜镜片的光谱性能测试仪器是分光光度计，分光光度计在使用的时候要将镀膜镜片放到一个暗箱里，这样做的原因是因为防止外界光源的干扰。
58、一般镀膜系统测量真空需要两个真空计：热电偶真空计和电离真空计
59、能够直接用来抽大气的真空泵是机械泵
60、热蒸发技术常用的蒸发源有电阻蒸发源和电子枪
61、反射膜反射带的带宽、反射率跟那些因素有关？这些因素具有怎样的影响效果？
答：与构成对多层膜的两种膜料的折射率有关，两种折射率差值越大，高反射带越宽。
62、反射带的波束宽度、波长宽度有哪些特点？
答：1、所有高反射带的波数带宽度均相等。2、各高反射带的波长带宽并不相等，波数越大对应的高反射带波长宽度越窄：
63、金、银、铝金属反射膜的特性、波段涵盖区域、附着力情况？
1、高反射波段非常宽阔，已经可以覆盖几乎全部光频范围。当然，就每一种具体的金属而言，它都有自己最佳的反射波段，2、各种金属膜层与基低的附着能力有较大的差距，例如：，Al，Cr，Ni与玻璃的附着牢固：而Au，Ag与玻璃附着能力较差，3、金属膜层的化学稳定性较差，易被环境气体腐蚀。4、膜层软，易划伤。
64、金属-介质反射膜的特点
优点是：结构简单，制造容易：缺点是：无法实现接近100%的反射率。在大功率激光系统中，金属膜层的吸收将导致膜层被烧伤而无法使用
65、基片清洁不好的话对膜层的影响
残留在基片表面的污物和清洁剂将导致：1、膜层对基体的附着力差；2、散射吸收增大，抗激光能力差3、透光性能差.
没有回复内容